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MOCVD(STAR/DISC)

MOCVD(STAR/DISC)

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详细说明
应用领域 

MOCVD反应腔中之碳化硅盖板与载盘,广泛应用于化合物半导体磊晶制程。

 

 

 

产品需求特性

1.耐高温
2.导热率高
3.particle产生之问题
4.热稳定性佳

 

 

凱樂士優異之處

1. 提供客制化服务
2. 质量稳定,交期迅速
3. 穴内平面度佳
4. 高性价比
5. 寿命长