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MOCVD(STAR/DISC)
MOCVD(STAR/DISC)
詳細說明
應用領域
MOCVD反應腔中之碳化矽蓋板與載盤，廣泛應用於化合物半導體磊晶製程。
產品需求特性：
1. 耐高溫
2. 導熱率高
3. 無particle產生之問題
4. 熱穩定性佳
凱樂士優異之處
1. 提供客製化服務
2. 品質穩定，交期迅速
3. 穴內平面度佳
4. 高性價比
5. 壽命長